Interview mit Ajit Manocha, CEO von Globalfoundries “Europa macht da einen ganz schlechten Job”

Im Exklusiv-Interview mit der Elektronik erklärt CEO Ajit Manocha, wieso er die zweitgrößte Foundry der Welt mit einer großen Fab in Dresden technisch mittlerweile führend sieht sowie das Unverständnis der europäischen und deutschen Politik beim Thema Subventionen für Chipfertigung.

Elektronik: Herr Manocha, Sie betonen immer wieder, dass Globalfoundries mit dem sogenannten “Foundry 2.0.”-Modell arbeitet und deswegen Wettbewerbsvorteile hat. Was genau steckt dahinter?

Ajit Manocha: Es werden selten die besten Ergebnisse erzielt, wenn ein isoliertes Team an einer Problemlösung arbeitet. Zudem ergibt sich ein Mangel an Flexibilität und Transparenz gegenüber den Kunden. Unser Modell sieht eine enge Verzahnung von Kunden- und Foundry-Aktivitäten vor: Es wird quasi ein gemeinsamer Fertigungsprozess von Kunde und Foundry definiert, wo wir geteiltes Investment und Erfolg zwischen Kunde und Foundry haben. Technologien und Fertigungslösungen werden gemeinsam entwickelt. Hierdurch werden Entwicklungsgeschwindigkeit, Kosten und System-Anforderungen gleichermaßen positiv beeinflusst. Die Kunden könnten bei Globalfoundries unlimitiert auf unsere Informationen zugreifen.

Elektronik: Ihre Roadmap ist ja ehrgeizig; 2013 kommt 20 nm, 2014 mit 14 nm erstmals eine FinFET-Generation und bereits 2015 soll dann ein 10-nm-Prozess folgen. Erst 2016 folgt ein Jahr Pause, bevor es 2017 mit 7 nm weitergeht. Was machen Sie denn, wenn bei der EUV nichts vorangeht?

Manocha: Wir hoffen natürlich, dass die EUV-Industrie ihre Zusagen einhält und in den nächsten Quartalen erste Maschinen ausliefert. Wir haben aber auch einen Plan B, mit dem wir 193-nm-Immersionslithografie bis auf 7 nm hinunterbringen. Stichwort: Double- und Triple-Patterning.

Elektronik: Neben FinFETs bietet Globalfoundries ja auch zwei weitere Fertigungsoptionen an: Das von ST Microelectronics vorangetriebene Fully-Depleted-SOI (FDSOI) und Super-Steep-Retrograde-Well-FETs (SSRW). Wer will die eigentlich haben und wem gehört die Zukunft?

Manocha: Zu Kunden kann ich leider nichts sagen. Jede Technologie ist für bestimmte Anwendungen am besten geeignet, so dass sie schwer zu vergleichen sind, aber in Bezug auf die Kenngröße Leistungsaufnahme/Rechenleistung/Siliziumfläche stellen FinFETs nach unserer Ansicht die bestmögliche Lösung dar. Der 14-nm-FinFET-Prozess ist auch unsere höchste Priorität.

Elektronik: Warum gibt es zwei Versionen von FDSOI mit den Bezeichnungen “Maximum” und “Minimum”?

Manocha: Die “Maximum-Version” ist speziell für bestimmte Applikationen “getunt”. ST Microelectronics und IBM sind Beispiele für Firmen, die das für spezifische Anwendungen nutzen. Die “Minimum-Version” ist quasi ein Standard “Out-of-the-Box”, der in Bezug auf Leistungsaufnahme/Rechenleistung/Siliziumfläche etwas schlechter ist.

Elektronik: Warum bieten Sie FDSOI eigentlich überhaupt an?

Manocha: Sehen Sie, 28 nm ist von der Kostenseite ein sehr attraktiver Node mit ausschließlich Single-Patterning, und FDSOI gibt Kunden, die noch nicht oder gar nicht auf 20 nm gehen können oder wollen, die Gelegenheit, die Lebensdauer von 28 nm auszudehnen. Nehmen Sie die ganzen Applikationen, die eine Minimierung der Leistungsaufnahme unter 1 W, aber nicht eine maximale Rechenleistung von x GHz benötigen, die profitieren enorm von FDSOI.

Elektronik: Dann haben wir noch die Überraschung SSRW, die 20-nm-Chips für 28-nm-Kosten verspricht. Haben Sie mit dem Startup SuVolta ein Abkommen erzielt ?

Manocha: Da kann ich Ihnen leider nichts zu sagen.