Innovationen aus der Maskenherstellung Internationale Lithographie-Konferenz EMLC 2017

Letztes Jahr konnte die Konferenz mehr als 160 Teilnehmer verzeichnen. Wie viele werden es dieses Jahr sein?
Letztes Jahr konnte die Konferenz mehr als 160 Teilnehmer verzeichnen. Wie viele werden es dieses Jahr sein?

Die zweitägige EMLC informiert jedes Jahr über die jüngsten Fortschritte der Maskenherstellung und Lithographie – dieses Jahr bereits zum 33. Mal.

Vom 27. bis 28. Juni 2017 treffen sich im Dresdner Hotel Hilton in der Maskenherstellung tätige Wissenschaftler, Forscher, Ingenieure und Entwickler, um über die aktuellen Entwicklungen und Trends auf ihrem Arbeitsgebiet zu diskutieren. Dabei kommen sowohl Experten aus Industrie und Forschung zu Wort.

Zu den im Rahmen der European Mask and Lithography Conference behandelten Themenbereichen zählen Maskenherstellung und Maskengeschäft, Lithographie-Systeme und -prozesse sowie aufstrebende Masken- und Lithographie-Technologien. 

Neues Themenfeld

Zum ersten Mal kommt in diesem Jahr das Themenfeld „Aufstrebende Anwendungen“ auf die Tagesordnung. Zu erwarten sind hierbei Vorträge zu „Non-IC Applications including Si-Photonics, Flat Panel Displays and MEMS“ sowie zu „Lithographic Systems for non-IC Applications, including Laser Direct Write, Interference Lithography and Mask Aligners“.

Als Chairman der Veranstaltung fungiert wieder Uwe Behringer, Geschäftsführer der Unternehmensberatung UBC Microelectronics. Neben einem umfangreichen und anspruchsvollen Vortragsprogramm sind Poster-Sessions und eine begleitende technische Fachausstellung geplant.

Informationen zur Anmeldung

Im vergangenen Jahr konnte die GMM-Konferenz EMLC etwa 160 Teilnehmer verzeichnen, und auch für die diesjährige Veranstaltung wird mit hohen Teilnehmerzahlen gerechnet. Möchten Sie weitere Informationen erhalten oder sich zur Konferenz anmelden? Möglich ist das über die Webseite der EMLC.

Am Vortag der Konferenz, also am 26. Juni 2017, findet nachmittags bereits ein Tutorial statt, für das Sie sich separat registrieren können.

Das Tutorial besteht aus zwei Teilen: Zuerst wird Andreas Erdmann vom Fraunhofer IISB, Erlangen eine allgemeine Einführung zu „Lithographic Imaging by Projection Optics“. Danach wird Jo Finders von ASML, Veldhoven/Niederlande, detaillierte Erklärungen zum Thema „Interaction of Mask and Scanner in EUV Projection Optics“ liefern.

 

Die GMM 
GMM MitgliederinfoDie GMM ist die bedeutendste unabhängige, wissenschaftliche Organisation auf dem Gebiet der Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik im deutschsprachigen Raum.
Als Medienpartner berichtet die Elektronik regelmäßig über die Aktivitäten des Verbands.