32 nm im Visier: BASF und IBM kooperieren

BASF und IBM wollen in Zukunft gemeinsam Materialien für die Halbleiterherstellung entwickeln.

Im Auge haben die beiden Unternehmen dabei die Herstellung von Schaltungen in 32-nm-Technologie. Mit einer kommerziellen Verwendung rechnen IBM und BASF im Jahr 2010.

Die dafür benötigten Prozess-Chemikalien und Materialien haben andere Anforderungen als die Produktion von Schaltungen in 45-nm-Technologie, die Ende dieses Jahres anlaufen soll.

Die Forschungsarbeiten für dieses Projekt sollen gemeinsam bei IBM in Yorktown Heights, USA, und der BASF in Ludwigshafen durchgeführt werden